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卧式磁控溅射系统

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卧式磁控溅射系统

  • 详细介绍

卧式磁控溅射系统

卧式磁控溅射系统

◆设备用途

用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。

◆设备组成

系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶(三个靶)、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。

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