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离子束溅射系统

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四室联合系统

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四室联合系统

  • 详细介绍

四室联合系统

四室联合系统

◆设备用途

该系统为高真空多功能离子束沉积系统, 系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、 合金、 化合物、 半导体、 介质复合膜等。 广泛应用于大专院校、 科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。

◆设备组成

系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片台(客户自备)、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成;

◆技术指标

1、极限真空度:≤5.0x10-5 Pa (经烘烤除气后);

2、系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S;

3、系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,40分钟可达到6.0x10-4 Pa;

4、停泵关机12小时后真空度:≤2 Pa。

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