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离子束溅射系统

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超高真空磁控镀膜系统

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超高真空磁控镀膜系统

  • 详细介绍

超高真空磁控镀膜系统

超高真空磁控镀膜系统

◆设备用途

该系统为高真空多功能离子束沉积系统, 系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、 合金、 化合物、 半导体、 介质复合膜等。 广泛应用于大专院校、 科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。

◆设备组成

系统主要由沉积室、 考夫曼溅射离子源、 考夫曼清洗辅助离子源、 样品台、 样品加热装置、膜厚监测系统、 泵抽系统、 真空测量系统、 气路系统、 电控系统等组成。

◆技术指标

可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式,或者双模式,可选辉光放电(用于网格表面亲水化)

专利设计脉冲式碳丝蒸发方式,可精确控制碳膜厚度

可选石英膜厚检测器,精确控制镀膜厚度,精度达0.1nm

全自动程序控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等过程

触摸屏控制,简单方便

真空度≤7×10 -3 mbar

溅射电流:0-150mA可调

方形样品仓专利设计,样品仓尺寸:140mm(宽)×145mm(深)×150mm(高)

工作距离调节范围:30mm-100mm

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