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PLD-300型激光镀膜设备

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PLD-300型激光镀膜设备

  • 详细介绍

PLD-300型激光镀膜设备

PLD-300型激光镀膜设备

◆设备用途

用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进

行薄膜材料的科研与小批量制备。

◆设备组成

主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测

量及电控系统等部分组成。

◆特点

脉冲激光沉积技术是目前最有前途的制膜技术,该技术简单且有很多优点。

(1) 可对化学成分复杂的复合物材料进行全等同镀膜, 易于保证镀膜后化学计量比的稳定。 与靶材成分容易一致是 PLD 的最大优点, 是区别于其他技术的主要标志。

(2) 反应迅速, 生长快。 通常情况下一小时可获1Lm 左右的薄膜。

(3) 定向性强、 薄膜分辩率高, 能实现微区沉积。

(4) 生长过程中可原位引入多种气体, 引入活性或惰性及混合气体对提高薄膜质量有重要意义。

(5) 易制多层膜和异质膜, 特别是多元氧化物的异质结, 只需通过简单的换靶就行。

(6) 靶材容易制备不需加热, 等离子能量高能量大于 10eV , 离子能量 1000eV 左右, 如此高的能量可降低膜所需的衬底温度, 易于在较低温度下原位生长取向一致的结构和外延单晶膜。

(7) 高真空环境对薄膜污染少可制成高纯薄膜;羽辉只在局部区域运输蒸发, 故对沉积腔污染要少地多。

(8) 可制膜种类多, 几乎所有的材料都可用PLD制膜, 除非材料对该种激光是透明的。

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