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YJ-ZF350A高真空单室热蒸发系统

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YJ-ZF350A高真空单室热蒸发系统

  • 详细介绍

30.YJ-ZF350A高真空单室热蒸发系统.jpg

YJ-ZF350A高真空单室热蒸发系统

◆设备用途

该系统为高真空多功能离子束沉积系统, 系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、 合金、 化合物、 半导体、 介质复合膜等。 广泛应用于大专院校、 科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。

◆设备组成

系统主要由沉积室、 考夫曼溅射离子源、 考夫曼清洗辅助离子源、 样品台、 样品加热装置、膜厚监测系统、 泵抽系统、 真空测量系统、 气路系统、 电控系统等组成。

◆技术指标

真空:极限真空6*10 -5 帕; 工作真空6*10 -4 帕

恢复工作真空时间:连接手套箱≤10分钟

不连接手套箱,充干燥氮气≤30分钟

配有3个金属蒸发源和3个有机蒸发源

配有3个膜厚探头,膜厚仪进口与国产可选

本文网址:http://hyyl683.com/product/613.html

关键词:高真空单室热蒸发系统,热蒸发系统,磁控溅射镀膜仪厂家

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