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离子束溅射系统常见的离子镀类型及特点

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离子束溅射系统常见的离子镀类型及特点

发布日期:2019-05-13 作者: 点击:

真空离子束溅射系统是真空镀膜设备的一种,它指的是一类需要在一定真空环境下进行的镀膜。离子镀膜机的原理和真空镀膜机的类似,这里就不多加赘述了。今天,给大家简单介绍下离子束溅射系统较常使用的离子镀的类型及特点。

1、电阻加热或电子束加热蒸发源

①直流放电二极型

特点:绕射性好,附着性好,基板温度易上升,膜结构及形貌差,若用电子束加热必须用差压板。

②多阴极型

特点:采用低能电子离化效率高,膜层质量可控制。

③射频放电离子镀

特点:不纯气体少,成膜好,化合物成膜更好。匹配较困难。

2、电子束加热蒸发源

①活性反应蒸镀

特点:蒸镀效率高,能获得三氧化二铝、TiN等薄膜。

②增强的ARE型

特点:易离化,基板所需功率和放电功率能独立调节,膜层质量、厚度都容易控制。

③低压等离子镀

特点:结构简单能获得TiC、TiN等化合物镀层。

④电场蒸发

特点:带电场的真空蒸镀,镀层质量好。

3、等离子电子束

空心阴极放电离子镀

特点:离比效率高,电子束斑较大,金属膜、介质膜、化合物膜都能镀。

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